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比利時(shí)IMEC通過厚20μm的結(jié)晶硅太陽能電池實(shí)現(xiàn)16.3%的轉(zhuǎn)換效率

   2010-07-16 日經(jīng)BP社21世紀(jì)新能源15930

  比利時(shí)研究機(jī)構(gòu)IMEC于2010年7月13日宣布,通過采用外延生長制作的20μm厚結(jié)晶硅太陽能電池,實(shí)現(xiàn)了16.3%的單元轉(zhuǎn)換效率。單元面積比較大,為70cm2。IMEC介紹說該單元目前正在美國舊金山市舉行的半導(dǎo)體展會“Semicon West 2010”(2010年7月12~16日)上展示。

  IMEC正在IMEC Industrial Affiliation Program(IIAP)這一開發(fā)項(xiàng)目中,開發(fā)兩種新一代結(jié)晶硅太陽能電池(參閱本站報(bào)道)。一種是從鑄錠上切割結(jié)晶硅晶圓后使用的整體型。另一種是通過外延生長在底板上形成結(jié)晶硅的型號。后者的特點(diǎn)是:雖然也在底板上采用了多晶硅晶圓,但晶圓質(zhì)量不高也可使用,而且厚度大幅薄于整體型。

  此次開發(fā)的單元制造工藝概要如下。首先,在底板上形成由多孔硅構(gòu)成的光密封專用布拉格反射層。然后,通過CVD(化學(xué)氣相沉積)法,按照p型BSF(Back Surface Field)、p型層以及n型層的順序來層疊半導(dǎo)體層。最后,在表面進(jìn)行等離子處理,形成用于光密封的凹凸。

  IMEC在同樣采用外延生長的同時(shí),制作出了部材不同的兩種單元。一種是采用高質(zhì)量結(jié)晶硅底板,在電極中采用銅(Cu)布線的單元。另一種是采用通過名為UMG(Upgraded Metallurgic Grade)的冶金工藝制造的質(zhì)量稍低的結(jié)晶硅晶圓,通過絲網(wǎng)印刷形成布線圖案的單元。16.3%的轉(zhuǎn)換效率是通過采用高質(zhì)量結(jié)晶硅底板實(shí)現(xiàn)的。采用UMG硅晶圓的單元的轉(zhuǎn)換效率為14.7%。IMEC的能源及太陽能業(yè)務(wù)總監(jiān)Jef Poortmans表示,“如果用銅來封裝布線圖案,那么即便是采用低質(zhì)量底板的單元,也可以將轉(zhuǎn)換效率提高至可與現(xiàn)有結(jié)晶硅太陽能電池相競爭的水平”。(記者:野澤 哲生)

 
轉(zhuǎn)換效率為16.3%的單元。采用了高質(zhì)量結(jié)晶硅底板和銅布線。


 
轉(zhuǎn)換效率為14.7%的單元。采用了低質(zhì)量結(jié)晶硅底板,以及通過絲網(wǎng)印刷形成的布線。

 
標(biāo)簽: IMEC
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